• SU-8光刻膠模具SU-8模具加工常用設(shè)備/耗材：等離子體處理機、勻膠機（旋涂機）、紫外線曝光機、熱板、SU-8顯影液等。SU-8光刻膠模具案例????????...2026-02-22 23:23:49
• 光刻掩膜版制作流程，從而形成所需的圖案。4. 曝光將掩模圖案數(shù)據(jù)文件導(dǎo)入曝光設(shè)備，如電子束曝光機。在曝光過程中，光刻膠中的光敏分子會因為光或電子束的照射而發(fā)生變化。5....2024-09-14 08:44:25
• 基于微流控技術(shù)實現(xiàn)嚴(yán)格厭氧條件下的細(xì)菌單細(xì)胞培養(yǎng)與實時觀測（上）序。?e. 將硅片置于平整的熱板上 95 ℃ 烘 2 min。?f. 在曝光機的吸盤周圍套入橡膠圈，將第一層鉻板掩膜清潔干凈后放在臺架上(鍍鉻面向下)...2024-04-22 10:01:06
• AZ 5214E 光刻膠圍AZ光刻膠工藝條件：前烘：100℃ 60秒?(DHP)曝光：1線步進式曝光機/接觸式曝光機反轉(zhuǎn)烘烤：110~125℃ 90秒（DHP）：去離子水30...2024-03-28 10:29:49
• AZ P4620 光刻膠擇AZ光刻膠工藝條件：前烘：100℃ 90秒?(DHP)曝光：G線步進式曝光機/接觸式曝光機顯影：AZ300MIF顯影液 (2.38%)?23℃?60...2024-03-28 10:29:14
• 光刻工藝介紹在可接受范圍內(nèi)是可以接受的。光刻過程基本可以分為兩個階段。第一階段為通過曝光機將所需圖形轉(zhuǎn)移到硅片或者掩模版的表層光刻膠上；第二階段為顯影階段，通過顯...2023-12-21 10:56:32
• 光刻機是光刻工藝的核心設(shè)備? ? ? ??光刻機(lithography)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。?　　光刻機一般根據(jù)操作...2022-11-22 08:50:23
• 微流控芯片模板是如何加工的束后，電熱板調(diào)至 65 ℃?zhèn)溆谩?（9）硅片曝光：將冷卻后的芯片置于紫外曝光機的吸盤上，組裝固定。紫外曝光的具體時間要依據(jù)芯片的具體要求進行調(diào)整，該實...2022-07-22 14:28:36
• PDMS-玻璃鍵合芯片完整工藝 2 所示。本文的陽膜是在超凈間內(nèi)制作完成，其中所用的主要設(shè)備是勻膠機，曝光機 ，以及可編程熱板 PHP-8 等，設(shè)備如圖 3 所示。（1）預(yù)處理：首...2022-03-31 14:37:35
• 基于時間分辨免疫分析的冰毒檢測微流控芯片試劑G3P-8旋轉(zhuǎn)涂覆機；KW-4AH烤膠機；SERIES-60平行紫外曝光機；ARV-310液體混合真空攪拌機；FG-5001空氣等離子體處理機；打...2018-11-07 09:49:11