1、設(shè)備主要技術(shù)指標(biāo)：

(1) 曝光面積： 200mm×200mm； 

（2）分辨力：?3mm；

（3）對(duì)準(zhǔn)精度：±2mm；

（4）掩模尺寸：5英寸、7英寸、9英寸；

（5）樣片尺寸：4英寸、6英寸、8英寸；

（6）wafer chuck表面：防止光反射涂層；

（7）掩模樣片整體運(yùn)動(dòng)范圍：X：10mm;Y:10mm；

（8）掩模相對(duì)于樣片運(yùn)動(dòng)行程：X: ±5mm;   Y: ±5mm;  q:  ±6°；

（9）汞燈功率：1000W（直流）；

（10）曝光能量密度：≥ 15mW/cm；

（11）光源能量控制：光源恒功率（每日測(cè)量光強(qiáng)，微調(diào)recipe(參考356nm波長) ；

（12）曝光峰值波長:365nm；

（13）曝光方式：定時(shí)（倒計(jì)時(shí)方式0.1s—9999.9s）；

（14）光刻版夾具兼容性

（15）具有盲曝粗對(duì)準(zhǔn)功能。

2．技術(shù)主要組成部分

（1）曝光頭系統(tǒng)包括:

     ¨ 冷光橢球鏡；

¨ 德國OSRAM1000W直流高壓汞燈；

¨ XYZ汞燈調(diào)節(jié)臺(tái)；

¨ 光學(xué)系統(tǒng)（冷光紫外平面反射鏡、快門、蠅眼透鏡組、冷光紫外拋物面反射鏡）；

¨ 冷卻風(fēng)扇。

（2）對(duì)準(zhǔn)工件臺(tái)系統(tǒng)包括:

¨ 掩模樣片相對(duì)運(yùn)動(dòng)臺(tái)；

¨（XY），轉(zhuǎn)動(dòng)臺(tái)；

¨ 樣片調(diào)平機(jī)構(gòu)；

¨ 樣片調(diào)焦機(jī)構(gòu)；

¨ 承片臺(tái)3個(gè)： 4英寸、6英寸、8英寸；

¨ 掩模夾3個(gè)：5英寸、7英寸、9英寸。

（3）CCD對(duì)準(zhǔn)顯微鏡系統(tǒng)包括:

¨4倍顯微鏡2只；

¨照明光源2套；

¨ CCD相機(jī)2只；

¨22英寸液晶顯示器。

（5）電控系統(tǒng)：

¨ 汞燈觸發(fā)電源(1000W)；

¨ 單片機(jī)控制系統(tǒng)；

¨ 控制柜桌。

（6）氣動(dòng)系統(tǒng)系統(tǒng)包括:

¨ 氣缸、電磁閥、減壓閥、氣動(dòng)開關(guān)，電磁閥驅(qū)動(dòng)，氣動(dòng)儀表等

（7）其他配置與附件

¨真空泵一臺(tái)；

¨空壓機(jī)一臺(tái)；

¨ 配套氣管10m；

3.相關(guān)技術(shù)資料：

     ¨設(shè)備使用及維護(hù)說明書

¨出廠檢驗(yàn)合格證。